光刻膠制造商有理由在2015年底時展開笑容，因為與2014年它的銷售額13.7億美元相比增長6.2%。按TECHCET Group關(guān)鍵材料的最新報告, 2016年全球光刻膠及延伸材料及輔助物品的市場,此種趨勢會維持到2020年。總的光刻膠及延伸材料的數(shù)量繼續(xù)隨著投入硅片數(shù)量有些增長,但是可能在未來4年中在14億美元徘徊。硅片數(shù)量的增加部分補償在先進工藝制程時光刻膠厚度的減少。

　　實際上光刻材料的增長得益于采用先進制程節(jié)點的硅片在數(shù)量上增加。全球統(tǒng)計5年的年復合增長率，在45nm及以上硅片的投入數(shù)量減少2%，而28nm及以下硅片的數(shù)量增加10%。

　　ArF(193nm波長)光刻膠占總市場的40%。而EUV光刻(13nm)仍預(yù)測要到2020年時才開始大量使用。

　　由于在10nm節(jié)點時從成本及低產(chǎn)出量考慮，會采用mix-and-match混合光刻模式Nano-Implrint(NIL)光刻僅只有亞洲一家存儲器廠商使用。而193nm浸入式光刻仍是所有先進工藝制程fab的首選。

　　為了提高分辨率采用延伸(extension)材料，目前有底層采用抗反射涂層(BARC),及自旋硬掩模材料(HM),再結(jié)合它的頂層涂光刻膠,稱之為三層膠(TLR)方法。延伸材料也包括特殊的化學材料可用來去除光刻膠，以及通過添加材料在側(cè)壁來縮小孔，現(xiàn)階段延伸材料增長最快,2015年達6.50億美元，預(yù)測到2020年可達7.9億美元。

　　光刻膠的輔助品,包括去膠劑,顯影液，邊緣氣泡去除劑(EBR),及特殊的溶劑，它的銷售額由今天的6億美元到2020年時為5.75億美元，主要由于光刻膠越來越薄,使用數(shù)量減少。其它輔助品通常由各地的供應(yīng)商自己解決，由于數(shù)量巨大，它的價格有壓力。

　　全球光刻膠供應(yīng)商主要有6個，占據(jù)90%市場，它包括11個能提供標準，及先進光刻膠原材料及關(guān)鍵輔助品的供應(yīng)商。日本JSR及TOK占據(jù)53%市場，其它均在12%及以下。TECHCET能提供相關(guān)的報告。

　　本文是莫大康先生編譯